創(chuàng)傷性口角炎主要表現(xiàn)為單側(cè)口角區(qū)有長短不一的裂口。新鮮創(chuàng)口常有滲血和血瘀，陳舊創(chuàng)口可痂皮。創(chuàng)傷性口角炎會給患者帶來身體和精神上雙重的壓力，只有弄清楚病因才能更好的醫(yī)治。

　　引起創(chuàng)傷性口角炎的常見病因：

　　一、化學因素

　　常見的化學物質(zhì)為具有腐蝕性的強酸、強堿、口腔治療用藥酚、硝酸銀、三氧化二砷等接觸了口腔粘膜。臨床上多見于誤入口腔或使用不當。有時則為自傷性。

　　二、物理性因素

　　口腔粘膜的熱損傷并不多見。偶因飲料、茶水或食物過燙時引起粘膜燙傷。超過一定劑量放射線全身或頭面部照射，可引起全身和口腔組織損傷。造成急性放射病和/或放射性口炎。主要變化是炎癥。戰(zhàn)時發(fā)生在核武器爆炸后，和平時期多因惡性腫瘤的放射治療或因輻射事故引起。

　　三、機械性因素

　　這是創(chuàng)傷性口角炎最多見的原因。常形成創(chuàng)傷性潰瘍，按刺激持續(xù)時間的不同可分為，持久性及非持久性刺激因素。持久性刺激因素包括：齲齒破壞后的殘冠、殘根、尖銳的牙尖、經(jīng)磨損后的牙齒銳緣、不良修復體的卡環(huán)、尖銳邊緣、過長的基板、舌系帶過短時與新生下頜乳切牙的摩擦等均是長期存留在口腔內(nèi)可以引起慢性創(chuàng)傷性損害的因素。